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您现在的位置: 医学全在线 > 药学理论 > 中国药品专利文献 > 正文:吡唑并吡啶衍生物专利检索:专利号/专利人/发明人
    

吡唑并吡啶衍生物

医药数据库中心 药学论坛 安斯泰来制药株式会社/阿部义人;大根和彦;佐藤健太郎;井上诚;奥村光晶
公开(公告)号 CN1980927A  
公开(公告)日 2007.06.13  
申请(专利)号 CN200580022545.1  
申请日期 2005.07.01  
专利名称 吡唑并吡啶衍生物  
主分类号 C07D471/04(2006.01)I  
分类号 C07D471/04(2006.01)I;A61K31/437(2006.01)I;A61P29/00(2006.01)I;A61P11/00(2006.01)I;C07D231/00(2006.01)N;C07D221/00(2006.01)N  
分案原申请号  
优先权 2004.7.5 AU 2004903691  
申请(专利权)人 安斯泰来制药株式会社  
发明(设计)人 阿部义人;大根和彦;佐藤健太郎;井上诚;奥村光晶  
地址 日本东京  
颁证日  
国际申请 2005-07-01 PCT/JP2005/012618  
进入国家日期 2007.01.04  
专利代理机构 中原信达知识产权代理有限责任公司  
代理人 刘 慧;杨 青  
国省代码 日本;JP  
主权项 下式的化合物: 其中 R1为:(1)任选被卤素取代的低级烷基、环(低级)烷基、低级烷氧基、羟基、被保护的羟基、环(低级)烷氧基、芳基氧基、羟基亚氨基、任选被低级烷基取代的氨基甲酰基氧基、或被取代的或未被取代的杂环基(其中所述低级烷氧基任选被环(低级)烷基、被取代的或未被取代的芳基、或被取代的或未被取代的杂芳基取代), (2)任选被氰基或氨基甲酰基取代的低级烯基,所述氨基甲酰基任选被可具有卤素的芳基取代, (3)环(低级)烷基, (4)酰基, (5)氰基, (6)被取代的或未被取代的芳基,或 (7)被取代的或未被取代的杂芳基; R2为R5或-(A1)p-X-A2-R5, 其中 p为0或1 A1为(C1-C2)亚烷基或-CH=CH-; A2为二价的杂环基、或-(CH2)n-或-(CH=CH)m-[其中n为1到6的整数,且m为1到3的整数]; X为单键、-CH2-或-O-,和 R5为羟基、被保护的羟基、氰基、酰基、羧基、被保护的羧基、羟基亚氨基(低级)烷基、或-CONR6R7, [其中R6为氢或低级烷基,且R7为氢或-(CH2)q-Y-R8(其中q为0、1、2或3,Y为键、-O-、或-CH(R9)-CH2-(其中R9为低级烷基、羧基或被保护的羧基),并且R8为(1)低级烷基,(2)被取代的或未被取代的芳基,(3)被取代的或未被取代的杂芳基,(4)被取代的或未被取代的杂环基,(5)被取代的或未被取代的环(低级)烷基,或, 或者R6和R7与它们连接的氮原子一起表示被取代的或未被取代的氮杂杂环基]; R3为:(1)被取代的或未被取代的芳基, (2)被取代的或未被取代的杂芳基, (3)被取代的或未被取代的杂环基, (4)环(低级)烷基,或 (5)任选被以下基团取代的低级烷基:(a)环(低级)烷基,(b)被取代的或未被取代的杂环基,(c)被取代的或未被取代的芳基,或(d)被取代的或未被取代的杂芳基;和 R4为低级烷基; 或其可药用盐,或其前药。  
摘要 本发明涉及式(I)的化合物或其盐(其中R1、R2、R3和R4如说明书中定义的),它们作为药物的应用,它们的制备方法和用于治疗PDE-IV或TNF-α介导的疾病的应用。  
国际公布 2006-01-12 WO2006/004188 英  
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