20-位酯化的喜树碱衍生物、其制法和其药物组合物与用途
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公开(公告)号
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CN1955183A
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公开(公告)日
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2007.05.02
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申请(专利)号
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CN200510116740.2
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申请日期
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2005.10.28
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专利名称
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20-位酯化的喜树碱衍生物、其制法和其药物组合物与用途
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主分类号
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C07D491/22(2006.01)I
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分类号
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C07D491/22(2006.01)I;A61K31/4745(2006.01)I;A61K31/496(2006.01)I;A61P35/00(2006.01)I;C07D221/00(2006.01)N;C07D209/00(2006.01)N;C07D311/00(2006.01)N
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分案原申请号
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优先权
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申请(专利权)人
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中国医学科学院药物研究所
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发明(设计)人
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温显道;刘红岩
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地址
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100050北京市宣武区先农坛街1号
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颁证日
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国际申请
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进入国家日期
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专利代理机构
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北京三高永信知识产权代理有限责任公司
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代理人
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何文彬
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国省代码
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北京;11
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主权项
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如通式(I)所示的化合物 该通式中 R1选自：氢，卤素，低级烷基，低级烷氧基，卤代低级烷基，羟基，RCOO，氰基，醛基，硝基，氨基，羧基，低级烷氧羰基，低级烷氧羰氨基，低级烷氨甲基，(4-甲基-1-哌嗪基)甲基，低级三烷基硅烷基，烷羰氧甲基，苯甲氧甲基，苯甲羰氧甲基，低级烷氧甲基，CH2NR5R6(R5和R6分别是氢，1-6碳原子烷基，芳基取代烷基，羟基取代低级烷基，氨基取代低级烷基，单或双取代氨基低级烷基，环氨基)； R2选自：氢，卤素，低级烷基，低级烷氧基，羟基，RCOO，氰基，醛基，硝基，氨基，RCONH，卤代低级烷基，羧基，低级烷氧羰基，低级烷氧羰氨基，CH2NR7R8(R7和R8分别是氢，1-6碳原子烷基，芳基取代烷基，羟基取代低级烷基，氨基取代低级烷基，单或双取代氨基低级烷基，环氨基)，CH2R9(R9为低级烷氧基，氰基)，NR10R11(R10、R11分别是低级烷基，芳基，二烷氨烷基，氨基低级烷基，羟基低级烷基)； R3选自：氢，卤素，低级烷基，低级烷氧基，氨基取代低级烷氧基，羟基，RCOO，氰基，醛基，硝基，氨基，卤代低级烷基，羧基，低级烷氧羰基，低级烷氧羰甲氧基，低级烷氧羰氨基，氨基取代低级烷基，羟基取代低级烷基，[4-(1-哌啶基)-1-哌啶基]羰氧基； R4选自：氢，卤素，低级烷基，低级烷氧基，RCOO，氰基，醛基，硝基，氨基，卤代低级烷基，羧基，低级烷氧羰基，低级烷氧羰氨基； 或R1和R2成环，或R2和R3成环，R3和R4成环； 其特征在于： R选自：a.1-嘧啶基或取代的1-嘧啶基(I)； R5是：氢，卤素，低级烷基； b.苯巯基或取代苯巯基(II)； R6是：氢，卤素，硝基，氨基，低级烷基，低级烷氧基，氰基，醛基的单取代或交叉多取代； c.吡啶巯基或取代吡啶巯基(III)； R7是：氢，卤素，硝基，氨基，低级烷基，低级烷氧基，氰基，醛基的单取代或交叉多取代，氮原子可以再芳环的2，3，4，5，6位； d.嘧啶巯基或取代嘧啶巯基(IV)； R8是：氢，卤素，硝基，氨基，低级烷基，低级烷氧基，氰基，醛基的单取代或交叉多取代，巯基位置可在2，4或5位； e.芳基或取代芳基(V)； R9是：氢，卤素，硝基，氨基，低级烷基，低级烷氧基，氰基，醛基，芳基的单取代或交叉多取代； f.是下列结构(VI)： R10是：氢，卤素，硝基，氨基，低级烷基，低级烷氧基，氰基，醛基的单取代或交叉多取代。
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摘要
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本发明公开了新的20-位酯化的喜树碱衍生物，其制备方法，含有它们的药物组合物，及其作为药物，尤其是作为抗肿瘤药物的用途。
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国际公布
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