| 公开(公告)号 | CN1956964A |
| 公开(公告)日 | 2007.05.02 |
| 申请(专利)号 | CN200580016082.8 |
| 申请日期 | 2005.03.23 |
| 专利名称 | 四氢-吲唑大麻素调节剂 |
| 主分类号 | C07D231/56(2006.01)I |
| 分类号 | C07D231/56(2006.01)I;C07D451/02(2006.01)I;C07D409/12(2006.01)I;C07D403/12(2006.01)I;C07D401/12(2006.01)I;C07D453/02(2006.01)I;C07D409/06(2006.01)I;C07D405/06(2006.01)I |
| 分案原申请号 | |
| 优先权 | 2004.3.24 US 60/555,890 |
| 申请(专利权)人 | 詹森药业有限公司 |
| 发明(设计)人 | B·拉古;F·利奥塔;M·潘;M·P·沃奇特;M·夏 |
| 地址 | 比利时比尔斯 |
| 颁证日 | |
| 国际申请 | 2005-03-23 PCT/US2005/009819 |
| 进入国家日期 | 2006.11.20 |
| 专利代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 |
| 代理人 | 李连涛 |
| 国省代码 | 比利时;BE |
| 主权项 | 一种具有下式I结构的化合物或其药学上可接受的盐、异构体、前药、代谢物或多晶型物， 其中 式I中2-3位之间和3a-7a位之间的虚线代表当X1R1存在时两个双键的位置； 式I中3-3a位之间和7a-1位之间的虚线代表当X2R2存在时两个双键的位置； 式I中7位和X4R4之间的虚线代表双键的位置； X1不存在，或者为低级亚烷基； X2不存在，或者为低级亚烷基； 其中X1R1和X2R2仅存在一个； X3不存在，或者为低级烷撑基、低级烷叉基或-NH-； 当7位和X4R4之间的虚线不存在时，则X4不存在，或者为低级亚烷基； 当7位和X4R4之间的虚线存在时，则X4不存在； X5不存在，或者为低级亚烷基； R1选自芳基、C3-C12环烷基或杂环基，所述基团中的任何一个在一个或多个位置任选被以下基团取代：卤素、低级烷基、羟基或低级烷氧基； R2选自芳基、C3-C12环烷基或杂环基，所述基团中的任何一个在一个或多个位置任选被以下基团取代：卤素、低级烷基、羟基或低级烷氧基； R3为 当7位和X4R4之间的虚线不存在时，R4为氢；羟基；低级烷基；低级烷氧基；卤素；在一个或多个位置任选被以下基团取代的芳基：羟基、低级烷基、低级烷氧基或卤素；在一个或多个位置任选被以下基团取代的杂环基：羟基、低级烷基、低级烷氧基或卤素；或者在一个或多个位置任选被以下基团取代的C3-C12环烷基：羟基、低级烷基、低级烷氧基或卤素； 当7位和X4R4之间的虚线存在时，R4为CH-芳基，其中芳基在一个或多个位置任选被以下基团取代：羟基、低级烷基、低级烷氧基或卤素；或者CH-杂环基，其中杂环基在一个或多个位置任选被以下基团取代：羟基、低级烷基、低级烷氧基或卤素； R5为氢；羟基；低级烷基；低级烷氧基；羟基-低级亚烷基-；羧基；烷氧基羰基；芳氧基羰基；芳基-烷氧基羰基；NHR10；-C(O)NR11R11a；-O-C(O)-R12；氧代基；或-C(O)R13； R6不存在，或者为-CH(R6a)-； R6a为氢；低级烷基；或者任选被一个或多个以下基团取代的芳基：卤素、羟基、低级烷氧基、羧基或烷氧基羰基； R7为低级烷氧基；任选被一个或多个以下基团取代的芳基：羟基、卤素、低级烷基、羧基、烷氧基羰基、低级烷氧基、羟基-亚烷基-、-NH(R6a)、芳氧基、芳基烷氧基或芳基-低级亚烷基；任选被一个或多个以下基团取代的C3-C12环烷基：羟基、卤素、低级烷基、低级烷基-氨基羰基、羧基、烷氧基羰基、低级烷氧基、低级烷氧基-低级亚烷基-、羟基-亚烷基-、芳氧基、芳基烷氧基、任选在芳基上被一个或多个以下基团取代的芳基烷氧基-低级亚烷基-：羟基、卤素或低级烷基；或芳基-低级亚烷基；任选被一个或多个以下基团取代的杂环基：羟基、卤素、低级烷基、羧基、烷氧基羰基、低级烷氧基、低级烷氧基-低级亚烷基-、羟基-亚烷基-、芳氧基或芳基烷氧基； R8、R8a、R9和R9a各自独立地为氢；低级烷基；-NHR15；任选被一个或多个以下基团取代的芳基：羟基、卤素、-NH(R6a)、-SO2-NH(R6a)、低级烷基、羧基、烷氧基羰基、低级烷氧基、羟基-亚烷基-、芳氧基或芳基烷氧基；任选被一个或多个以下基团取代的C3-C12环烷基：羟基、卤素、氨基、低级烷基、羧基、烷氧基羰基、低级烷氧基、羟基-亚烷基-、芳氧基、芳基烷氧基或低级亚烷基；或者任选被一个或多个以下基团取代的杂环基：羟基、卤素、氨基、低级烷基、羧基、烷氧基羰基、低级烷氧基、羟基-亚烷基-、芳氧基或芳基烷氧基； R10为氢、在一个或多个位置任选被以下基团取代的C1-C10烷氧基羰基：羟基、卤素或芳基；-C(O)CF3；-SO2-NR14R14a；在一个或多个位置任选被以下基团取代的-C(O)-杂环基：羟基、卤素或芳基；-C(O)NR14R14a；-SO2-芳基；-SO2R14；或SO2NR14R14a； R11、R11a、R12、R13、R14和R14a和R15各自独立地为氢；C1-C10烷基；杂环基；C3-C12环烷基；或任选被以下基团取代的芳基：低级烷基、羟基、烷氧基、卤素-SO2-N(R6a)2、杂环基或芳基-低级亚烷基-； Z1不存在；为-NH-；或为在一个或多个位置任选被以下基团取代的低级亚烷基：卤素、羟基、低级烷氧基、羧基或低级烷氧基羰基； Z2不存在；或为在一个或多个位置任选被以下基团取代的低级亚烷基：芳基、环烷基、卤素、羟基、低级烷基、低级烷氧基、羧基、烷氧基羰基或芳基。 |
| 摘要 | 本发明涉及式I的四氢-吲唑大麻素调节剂化合物及其用于治疗、改善或预防大麻素受体介导的综合征、障碍或疾病的方法。 |
| 国际公布 | 2005-10-13 WO2005/095353 英 |
