| 公开(公告)号 | CN1854140A |
| 公开(公告)日 | 2006.11.01 |
| 申请(专利)号 | CN200610077595.6 |
| 申请日期 | 2006.04.28 |
| 专利名称 | 呋脲苄青霉素钠晶体及其合成方法 |
| 主分类号 | C07D499/46(2006.01)I |
| 分类号 | C07D499/46(2006.01)I |
| 分案原申请号 | |
| 优先权 | 2005.4.28 CN 200510066559.5 |
| 申请(专利权)人 | 北京信汇科技有限公司 |
| 发明(设计)人 | 蒋征昊 |
| 地址 | 100085北京市海淀区上地7街1号汇众大厦9层 |
| 颁证日 | |
| 国际申请 | |
| 进入国家日期 | |
| 专利代理机构 | 北京邦信阳专利商标代理有限公司 |
| 代理人 | 黄泽雄;邵毓琴 |
| 国省代码 | 北京;11 |
| 主权项 | 一种结构式如下的呋脲苄青霉素钠晶体， 该晶体具有如下X-射线粉末衍射图谱，该图谱是由λ＝1.5406铜靶穿过石墨单色仪而获得的： d I/I0 14.66-15.37 1 9.90-10.08 0.23-0.31 8.67-8.79 0.20-0.34 4.97-5.04 0.44-0.65 4.08-4.14 0.23-0.42 其中d为晶面间距，I/I0为相对强度。 |
| 摘要 | 本发明涉及高纯度的稳定的呋脲苄青霉素钠晶体及其合成方法。该方法操作简单，生产周期短，有机溶剂用量少，实现了溶媒结晶，并且收率达到了90-95％。经高压液相色谱测定，本发明的呋脲苄青霉素钠晶体的纯度到达了91％以上。 |
| 国际公布 |
