| 公开(公告)号 | CN1832728A |
| 公开(公告)日 | 2006.09.13 |
| 申请(专利)号 | CN200480022554.6 |
| 申请日期 | 2004.08.04 |
| 专利名称 | 用于制备药物超微粒子的方法和装置 |
| 主分类号 | A61K9/16(2006.01)I |
| 分类号 | A61K9/16(2006.01)I;A61K47/18(2006.01)I;A61K47/34(2006.01)I;A61K47/44(2006.01)I;A61P1/00(2006.01)I;A61P3/02(2006.01)I;A61P3/06(2006.01)I;A61P3/10(2006.01)I;A61P5/00(2006.01)I;A61P9/10(2006.01)I;A61P9/12(2006.01)I;A61P19/10(2006.01)I;A61P25/04(2006.01)I;A61 |
| 分案原申请号 | |
| 优先权 | 2003.8.6 JP 287943/2003 |
| 申请(专利权)人 | 卫材株式会社 |
| 发明(设计)人 | 加藤晃良;山口武宏;野村晃子;小内克巳 |
| 地址 | 日本东京都 |
| 颁证日 | |
| 国际申请 | 2004-08-04 PCT/JP2004/011518 |
| 进入国家日期 | 2006.02.06 |
| 专利代理机构 | 北京市中咨律师事务所 |
| 代理人 | 黄革生;林柏楠 |
| 国省代码 | 日本;JP |
| 主权项 | 制备具有10nm至1000nm平均粒度的药物超微粒子的方法，其包括步骤1)将药物溶解于至少一种良溶剂或良溶剂混合物中以制备含药物溶液；2)将含药物溶液与对所述药物为不良溶剂或不良溶剂混合物并且与所述良溶剂或良溶剂混合物中溶解有药物的含药物溶液可混合的溶剂混合；3)将所制备的混合液使用高压均化器直接在一定压力下乳化而无需实施用于调整药物以便使之具有100μm或更小平均粒度的预处理步骤。 |
| 摘要 | 本发明提供了具有优越长期分散性的亚微米大小的药物微粒子。特别地，本发明提供了通过1)将药物溶解于良溶剂或良溶剂混合物中以制备含药物溶液；2)将含药物溶液与对所述药物为不良溶剂或不良溶剂混合物并且与良溶剂或良溶剂混合物中溶解有药物的含药物溶液可混合的溶剂混合；并且3)将所制备的混合物在一定压力下使用高压均化器直接乳化而无需实施用于调整药物以便使之具有100μm或更小平均粒度的预处理步骤以产生具有10nm至1000nm平均粒度的药物超微粒子的方法和用于产生这种粒子的装置。 |
| 国际公布 | 2005-02-17 WO2005/013938 日 |
