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您现在的位置: 医学全在线 > 药学理论 > 中国药品专利文献 > 正文:二氮杂萘衍生物专利检索:专利号/专利人/发明人
    

二氮杂萘衍生物

医药数据库中心 药学论坛 株式会社大塚制药工场/涩谷直应
公开(公告)号 CN1266151C  
公开(公告)日 2006.07.26  
申请(专利)号 CN02816531.4  
申请日期 2002.02.21  
专利名称 二氮杂萘衍生物  
主分类号 C07D471/04(2006.01)I  
分类号 C07D471/04(2006.01)I;A61K31/4375(2006.01)I;A61P25/04(2006.01)I;A61P29/00(2006.01)I;A61P3/10(2006.01)I;A61P43/00(2006.01)I  
分案原申请号  
优先权 2001.8.23 JP 252565/2001  
申请(专利权)人 株式会社大塚制药工场  
发明(设计)人 涩谷直应  
地址 日本德岛  
颁证日  
国际申请 2002-02-21 PCT/JP2002/001520  
进入国家日期 2004.02.23  
专利代理机构 中原信达知识产权代理有限责任公司  
代理人 王维玉;薛俊英  
国省代码 日本;JP  
主权项 下述通式(1)表示的的二氮杂萘衍生物, 其中R1是氢原子,R2是在苯环上任选具有1-3个低级烷氧基的苯基-低级烷基基团,R3和R4之一是-Y-O-Z-R5基团,其中Y是低级亚烷基基团,Z是单键,R5是有1-3个低级烷氧基取代基的苯基基团;另一个是低级烷基基团。  
摘要 本发明提供了新颖的二氮杂萘衍生物,该衍生物用于缓解疼痛时是有效、低毒的;并且对于治疗糖尿病性神经病也是有效的,该衍生物由通式(l)表示,其中的 R1、R2、R3和R4如说明书所述。  
国际公布 2003-03-06 WO2003/018580 日  
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