公开(公告)号
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CN1266151C
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公开(公告)日
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2006.07.26
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申请(专利)号
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CN02816531.4
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申请日期
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2002.02.21
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专利名称
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二氮杂萘衍生物
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主分类号
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C07D471/04(2006.01)I
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分类号
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C07D471/04(2006.01)I;A61K31/4375(2006.01)I;A61P25/04(2006.01)I;A61P29/00(2006.01)I;A61P3/10(2006.01)I;A61P43/00(2006.01)I
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分案原申请号
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优先权
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2001.8.23 JP 252565/2001
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申请(专利权)人
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株式会社大塚制药工场
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发明(设计)人
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涩谷直应
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地址
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日本德岛
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颁证日
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国际申请
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2002-02-21 PCT/JP2002/001520
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进入国家日期
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2004.02.23
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专利代理机构
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中原信达知识产权代理有限责任公司
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代理人
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王维玉;薛俊英
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国省代码
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日本;JP
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主权项
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下述通式(1)表示的的二氮杂萘衍生物, 其中R1是氢原子,R2是在苯环上任选具有1-3个低级烷氧基的苯基-低级烷基基团,R3和R4之一是-Y-O-Z-R5基团,其中Y是低级亚烷基基团,Z是单键,R5是有1-3个低级烷氧基取代基的苯基基团;另一个是低级烷基基团。
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摘要
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本发明提供了新颖的二氮杂萘衍生物,该衍生物用于缓解疼痛时是有效、低毒的;并且对于治疗糖尿病性神经病也是有效的,该衍生物由通式(l)表示,其中的 R1、R2、R3和R4如说明书所述。
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国际公布
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2003-03-06 WO2003/018580 日
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