| 公开(公告)号 | CN1285596C |
| 公开(公告)日 | 2006.11.22 |
| 申请(专利)号 | CN02829500.5 |
| 申请日期 | 2002.06.12 |
| 专利名称 | 由头孢烷衍生物制备青霉烷衍生物的方法 |
| 主分类号 | C07D499/06(2006.01)I |
| 分类号 | C07D499/06(2006.01)I;C07D499/87(2006.01)I |
| 分案原申请号 | |
| 优先权 | 2002.6.7 IN 434/MAS/2002 |
| 申请(专利权)人 | 奥齐德化学和制药有限公司 |
| 发明(设计)人 | P·B·德斯潘德;U·P·森西尔库马;G·安德鲁 |
| 地址 | 印度切纳 |
| 颁证日 | |
| 国际申请 | 2002-06-12 PCT/IB2002/002230 |
| 进入国家日期 | 2005.02.05 |
| 专利代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 |
| 代理人 | 周承泽 |
| 国省代码 | 印度;IN |
| 主权项 | 一种制备通式(I)所示2β-杂环基甲基青霉烷衍生物的方法：式中，R1表示氢、羧酸保护基或药物可接受的盐；R2和R3可以相同或不同，分别表示氢、卤素、NH2、酰氨基、邻苯二酰亚氨基，其前提是R2和R3不都为NH2、酰氨基、邻苯二酰亚氨基；Het表示包含NH的5元杂环系统，它包含一个或多个N杂原子，所述方法包括：(i)在溶剂和碱存在下，在-10到110℃下使通式(VII)所示化合物式中，L表示离去基，选自氯、溴或碘；所有其它取代基如上所述；和通式(VIII)所示化合物反应，Het-H (VIII)式中，Het如上所述；制得通式(IX)所示的化合物；式中，所有其它取代基如上所述；(ii)使用常规氧化剂，在可水混溶的溶剂和有机酸存在下氧化通式(IX)所示的化合物，制得通式(I)所示的化合物；并且若需要的话，(iii)在碱和水不可混溶的溶剂存在下，使用金属催化剂将其中R1为羧基保护剂的通式(I)所示化合物脱酯成其中R1是氢的通式(I)所示化合物。 |
| 摘要 | 本发明提供一种制备通式(I)所示2β-杂环基甲基青霉烷衍生物的新方法：(I)式中，R1表示氢、羧酸保护基如酯或药物可接受的盐；R2和R3可以相同或不同，分别表示氢、卤素、NH2、酰氨基、邻苯二酰亚氨基，其前提是R2和R3不是都为NH2、酰氨基、邻苯二酰亚氨基；Het表示包含NH的5或6元杂环系统，它包含一个或多个选自O、S或N的杂原子，所述方法包括：(i)在溶剂和碱存在下，在-10到110℃下使通式(Ⅶ)所示化合物(L表示离去基)和通式(Ⅷ)所示化合物(其中Het如上所述)反应，制得通式(IX)所示的化合物；(ii)使用常规氧化剂，在可水混溶的溶剂和有机酸存在下氧化通式(IX)所示的化合物，制得通式(I)所示的化合物；并且若需要的话，(iii)在碱和水不混溶的溶剂存在下，使用金属催化剂将其中R1为羧基保护剂的通式(I)所示化合物脱酯成其中R1是氢的通式(I)所示化合物。 |
| 国际公布 | 2003-12-18 WO2003/104241 英 |
