| 公开(公告)号 | CN1266151C |
| 公开(公告)日 | 2006.07.26 |
| 申请(专利)号 | CN02816531.4 |
| 申请日期 | 2002.02.21 |
| 专利名称 | 二氮杂萘衍生物 |
| 主分类号 | C07D471/04(2006.01)I |
| 分类号 | C07D471/04(2006.01)I;A61K31/4375(2006.01)I;A61P25/04(2006.01)I;A61P29/00(2006.01)I;A61P3/10(2006.01)I;A61P43/00(2006.01)I |
| 分案原申请号 | |
| 优先权 | 2001.8.23 JP 252565/2001 |
| 申请(专利权)人 | 株式会社大塚制药工场 |
| 发明(设计)人 | 涩谷直应 |
| 地址 | 日本德岛 |
| 颁证日 | |
| 国际申请 | 2002-02-21 PCT/JP2002/001520 |
| 进入国家日期 | 2004.02.23 |
| 专利代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 |
| 代理人 | 王维玉;薛俊英 |
| 国省代码 | 日本;JP |
| 主权项 | 下述通式(1)表示的的二氮杂萘衍生物，其中R1是氢原子，R2是在苯环上任选具有1-3个低级烷氧基的苯基-低级烷基基团，R3和R4之一是-Y-O-Z-R5基团，其中Y是低级亚烷基基团，Z是单键，R5是有1-3个低级烷氧基取代基的苯基基团；另一个是低级烷基基团。 |
| 摘要 | 本发明提供了新颖的二氮杂萘衍生物，该衍生物用于缓解疼痛时是有效、低毒的；并且对于治疗糖尿病性神经病也是有效的，该衍生物由通式（l)表示，其中的 R1、R2、R3和R4如说明书所述。 |
| 国际公布 | 2003-03-06 WO2003/018580 日 |
