| 公开(公告)号 | CN1708483A |
| 公开(公告)日 | 2005.12.14 |
| 申请(专利)号 | CN200380102010.6 |
| 申请日期 | 2003.10.22 |
| 专利名称 | 制备吡唑化合物的方法 |
| 主分类号 | C07D231/38 |
| 分类号 | C07D231/38 |
| 分案原申请号 | |
| 优先权 | 2002.10.23 US 60/420,590 |
| 申请(专利权)人 | 万有制药株式会社 |
| 发明(设计)人 | 间濑俊明;饭田刚彦;门胁千惠;川崎雅史;浅川坚一;羽下裕二 |
| 地址 | 日本东京 |
| 颁证日 | |
| 国际申请 | 2003-10-22 PCT/JP2003/013507 |
| 进入国家日期 | 2005.04.25 |
| 专利代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 |
| 代理人 | 樊卫民;杨 青 |
| 国省代码 | 日本;JP |
| 主权项 | 制备式I′的化合物、或其盐、水合物或多晶型物的方法，其中R1和R2都独立地选自：(1)氢，(2)卤素，(3)硝基，(4)低级烷基，(5)卤代(低级)烷基，(6)羟基(低级)烷基，(7)环(低级)烷基，(8)低级链烯基，(9)低级烷氧基，(10)卤代(低级)烷氧基，(11)低级烷硫基，(12)羧基，(13)低级烷酰基，(14)低级烷氧基羰基，(15)选择性地被氧代取代的低级亚烷基，和(16)-Q-Ar2，其中Q选自单键和羰基，和其中Ar2选自：(1)芳基，和(2)杂芳基，其中Ar2为未取代的或被选自以下的取代基取代：(a)卤素，(b)氰基，(c)低级烷基，(d)卤代(低级)烷基，(e)羟基(低级)烷基，(f)羟基，(g)低级烷氧基，(h)卤代(低级)烷氧基，(i)低级烷基氨基，(j)(二低级烷基)氨基，(k)低级烷酰基，和(l)芳基；所述方法包括步骤：(a)形成肼溶液；(b)向步骤(a)的肼溶液中加入式V的化合物形成混合物；和其中R3选自(1)低级烷基，(2)芳基，和(3)-CH2芳基，(c)加热步骤(b)的混合物到约50℃到约100℃的温度；以得到化合物I’、或其盐、水合物或多晶型物。 |
| 摘要 | 本发明涉及制备式I的吡唑化合物的方法。 |
| 国际公布 | 2004-05-06 WO2004/037794 英 |
