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您现在的位置: 医学全在线 > 药学理论 > 中国药品专利文献 > 正文:含有抗坏血酸衍生物的化妆品及药品制剂专利检索:专利号/专利人/发明人
    

含有抗坏血酸衍生物的化妆品及药品制剂

医药数据库中心 药学论坛 BASF公司/H·斯特雷赫尔;B·奥斯特瑟尔特;;H·维斯藤菲尔德
公开(公告)号 CN1211082C  
公开(公告)日 2005.07.20  
申请(专利)号 CN98122464.4  
申请日期 1998.11.16  
专利名称 含有抗坏血酸衍生物的化妆品及药品制剂  
主分类号 A61K31/375  
分类号 A61K31/375;A61K7/02;A61K7/06;A61K7/48;A61K47/22;C07D307/62  
分案原申请号  
优先权 1997.11.14 DE 19750526.0  
申请(专利权)人 BASF公司  
发明(设计)人 H·斯特雷赫尔;B·奥斯特瑟尔特;;H·维斯藤菲尔德  
地址 联邦德国路德维希港  
颁证日  
国际申请  
进入国家日期  
专利代理机构 中国专利代理(香港)有限公司  
代理人 张元忠;温宏艳  
国省代码 德国;DE  
主权项 式I的抗坏血酸衍生物在化妆品和药物制剂中的应用,其中可变化基团相互独立地具有以下意义:R1是氢,C1-C20-酰基,C1-C12-烷氧羰基;R2是氢,C1-C12-烷氧羰基;R3是氢;R4是C1-C12-烷氧羰基。  
摘要 描述了在化妆品和药物制剂中使用式I的抗坏血酸衍生物∴其中可变基团相互独立地具有如下意义:R1 是氢,C1-C20-酰基,C1-C12-烷氧羰基,C1-C12-烷基;R2 是氢,C1-C20-酰基,C1-C12-烷氧羰基,C1-C12-烷基;其中R1和R2,与和它们键连的氧原子以及键连至氧原子的碳原子一起,可以形成一个未取代的或取代的杂环:R3 是氢或选自包括NH4+,碱金属和碱土金属阳离子的阳离子;R4 是C1-C12-烷氧羰基。  
国际公布  
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