| 公开(公告)号 | CN1638742A |
| 公开(公告)日 | 2005.07.13 |
| 申请(专利)号 | CN03804387.4 |
| 申请日期 | 2003.02.20 |
| 专利名称 | 缓释制剂及其制造方法 |
| 主分类号 | A61K9/22 |
| 分类号 | A61K9/22;A61K47/04;A61K47/12 |
| 分案原申请号 | |
| 优先权 | 2002.2.21 JP 44460/2002 |
| 申请(专利权)人 | 大塚制药株式会社 |
| 发明(设计)人 | 友平裕三 |
| 地址 | 日本东京都 |
| 颁证日 | |
| 国际申请 | PCT/JP2003/001837 2003.2.20 |
| 进入国家日期 | 2004.08.20 |
| 专利代理机构 | 北京市金杜律师事务所 |
| 代理人 | 杨宏军 |
| 国省代码 | 日本;JP |
| 主权项 | 一种缓释制剂，是在将低熔点物质及药理活性物质熔融造粒得到的粒子表面熔融涂覆(1)水不溶性高分子物质的微粉或(2)水不溶性高分子物质与选自滑石粉、硬脂酸镁及氧化钛中的至少1种微粉而得到的。 |
| 摘要 | 本发明提供一种能够长时间释放药理活性物质的缓释制剂及其制造方法。在将低熔点物质及药理活性物质熔融造粒得到的粒子表面熔融涂覆(1)水不溶性高分子物质的微粉或(2)水不溶性高分子物质与选自滑石粉、硬脂酸镁及氧化钛中的至少1种的微粉，由此制造本发明的缓释制剂。 |
| 国际公布 | WO2003/070223 日 2003.8.28 |
