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您现在的位置: 医学全在线 >> 药学理论 >> 中国药品专利文献 >> 正文:C-21修饰的环氧噻酮类化合物专利检索:专利号/专利人/发明人
    

C-21修饰的环氧噻酮类化合物

公开(公告)号 CN1205208C  
公开(公告)日 2005.06.08  
申请(专利)号 CN00803946.1  
申请日期 2000.02.17  
专利名称 C-21修饰的环噻酮类化合物  
主分类号 C07D417/06  
分类号 C07D417/06;C07D493/04;A61K31/425;A01N43/78;A01N43/90  
分案原申请号  
优先权 1999.2.22 DE 19907588.3;1999.7.1 DE 19930111.5  
申请(专利权)人 生物技术研究股份有限公司;布里斯托尔-迈尔斯斯奎布公司  
发明(设计)人 G·赫夫勒;N·格拉泽尔;T·莱波尔德;;G·维特;S·-H·金  
地址 德国布伦瑞克  
颁证日  
国际申请 PCT/US2000/004068 2000.2.17  
进入国家日期 2001.08.17  
专利代理机构 中国专利代理(香港)有限公司  
代理人 温宏艳;刘玥  
国省代码 德国;DE  
主权项 具有通式I的化合物:其中:P-Q是C,C双键或环氧化物;G是或R选自H、烷基和取代的烷基;R1选自:G10=C,和R2是G1选自H、卤素、CN、烷基和取代的烷基;G2选自H、烷基和取代的烷基;G3选自O、S和NZ1;G4选自H、烷基、取代的烷基、OZ2、NZ2Z3、Z2C=O、Z4SO2和任选取代的糖基;G5选自卤素、N3、NCS、SH、CN、NC、N(Z1)3+和杂芳基;G6选自H、烷基、取代的烷基、CF3、OZ5、SZ5和NZ5Z6;G7是CZ7或N;G8选自H、卤素、烷基、取代的烷基、OZ10、SZ10、NZ10Z11;G9选自O、S、-NH-NH-和-N=N-;G10是N或CZ12;G11选自H2N、取代H2N、烷基、取代的烷基、芳基和取代的芳基;Z1、Z6、Z9和Z11独立地选自H、烷基、取代的烷基、酰基和取代的酰基;Z2选自H、烷基、取代的烷基、芳基、取代的芳基和杂环;Z3、Z5、Z8和Z10独立地选自H、烷基、取代的烷基、酰基、取代的酰基、芳基和取代的芳基;Z4选自烷基、取代的烷基、芳基、取代的芳基和杂环;Z7选自H、卤素、烷基、取代的烷基、芳基、取代的芳基、OZ8、SZ8和NZ8Z9;和Z12选自H、卤素、烷基、取代的烷基、芳基和取代的芳基;条件是当R1为时,G1,G2,G3和G4不可以同时具有下列含义:G1和G2=H,G3=O和G4=H或Z2C=O,其中Z2=烷基,并且当R1为时,G6、G8和G7不可以同时具有下列含义:G6、G8表示H、G7表示CZ7,其中Z7是H。  
摘要 本发明涉及其中噻唑基被修饰的环氧噻酮类化合物、其制备方法和含有这些环氧噻酮的抗真菌剂或治疗剂。  
国际公布 WO2000/050423 英 2000.8.31  
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