公开(公告)号
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CN1205208C
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公开(公告)日
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2005.06.08
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申请(专利)号
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CN00803946.1
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申请日期
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2000.02.17
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专利名称
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C-21修饰的环氧噻酮类化合物
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主分类号
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C07D417/06
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分类号
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C07D417/06;C07D493/04;A61K31/425;A01N43/78;A01N43/90
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分案原申请号
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优先权
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1999.2.22 DE 19907588.3;1999.7.1 DE 19930111.5
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申请(专利权)人
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生物技术研究股份有限公司;布里斯托尔-迈尔斯斯奎布公司
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发明(设计)人
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G·赫夫勒;N·格拉泽尔;T·莱波尔德;;G·维特;S·-H·金
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地址
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德国布伦瑞克
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颁证日
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国际申请
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PCT/US2000/004068 2000.2.17
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进入国家日期
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2001.08.17
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专利代理机构
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中国专利代理(香港)有限公司
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代理人
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温宏艳;刘玥
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国省代码
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德国;DE
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主权项
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具有通式I的化合物:其中:P-Q是C,C双键或环氧化物;G是或R选自H、烷基和取代的烷基;R1选自:G10=C,和R2是G1选自H、卤素、CN、烷基和取代的烷基;G2选自H、烷基和取代的烷基;G3选自O、S和NZ1;G4选自H、烷基、取代的烷基、OZ2、NZ2Z3、Z2C=O、Z4SO2和任选取代的糖基;G5选自卤素、N3、NCS、SH、CN、NC、N(Z1)3+和杂芳基;G6选自H、烷基、取代的烷基、CF3、OZ5、SZ5和NZ5Z6;G7是CZ7或N;G8选自H、卤素、烷基、取代的烷基、OZ10、SZ10、NZ10Z11;G9选自O、S、-NH-NH-和-N=N-;G10是N或CZ12;G11选自H2N、取代H2N、烷基、取代的烷基、芳基和取代的芳基;Z1、Z6、Z9和Z11独立地选自H、烷基、取代的烷基、酰基和取代的酰基;Z2选自H、烷基、取代的烷基、芳基、取代的芳基和杂环;Z3、Z5、Z8和Z10独立地选自H、烷基、取代的烷基、酰基、取代的酰基、芳基和取代的芳基;Z4选自烷基、取代的烷基、芳基、取代的芳基和杂环;Z7选自H、卤素、烷基、取代的烷基、芳基、取代的芳基、OZ8、SZ8和NZ8Z9;和Z12选自H、卤素、烷基、取代的烷基、芳基和取代的芳基;条件是当R1为时,G1,G2,G3和G4不可以同时具有下列含义:G1和G2=H,G3=O和G4=H或Z2C=O,其中Z2=烷基,并且当R1为时,G6、G8和G7不可以同时具有下列含义:G6、G8表示H、G7表示CZ7,其中Z7是H。
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摘要
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本发明涉及其中噻唑基被修饰的环氧噻酮类化合物、其制备方法和含有这些环氧噻酮的抗真菌剂或治疗剂。
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国际公布
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WO2000/050423 英 2000.8.31
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