公开(公告)号
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CN1219521C
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公开(公告)日
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2005.09.21
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申请(专利)号
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CN03128853.7
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申请日期
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2003.05.27
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专利名称
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一种祛疤抑痘制剂及其制备方法
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主分类号
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A61K35/56
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分类号
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A61K35/56;A61P17/10;A61P17/02
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分案原申请号
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优先权
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申请(专利权)人
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上海上大吉申科技开发有限公司
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发明(设计)人
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谢绵坩;张晓亮;张军令;何志文
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地址
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200072 上海市闸北区延长路149号科技楼403-405室
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颁证日
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国际申请
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进入国家日期
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专利代理机构
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上海上大专利事务所
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代理人
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顾勇华
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国省代码
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上海;31
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主权项
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一种祛痘抑疤制剂,其特征是该祛痘抑疤制剂的组分及重量百分含量如下:甲基乙烯基聚硅氧烷13.5-20甲基硅油1-2.5硅酮凝胶21-25维生素E油5-7.5超细珍珠粉1.5冰片0.3薄荷0.3甲基三乙酰基硅烷1.05-1.5二丁基二月桂酸锡0.1-0.5石油醚余量。
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摘要
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本发明涉及一种能抑制和治疗痤疮及痤疮遗留下的疤痕的外用药剂及其制备方法,属医药外用剂制备工艺技术领域。本发明的一种祛痘抑疤制剂,其特征是该它的组分及配比(重量%)如下:甲基乙烯基聚硅氧烷13.5-20,甲基硅油1-2.5,硅酮凝胶21-25,维生素E油5-7.5,超细珍珠粉1.5,冰片0.3,薄荷0.3,甲基三乙酰基硅烷1.05-1.5,二丁基二月桂酸锡0.1-0.5,石油醚余量。制备方法是:将上述组分称量后,分批溶解于石油醚中,再放入搅拌桶内,搅拌使混合均匀,最后加入超细珍珠粉,再搅拌使混合均匀,最后将药液分装入铝罐,充入抛射剂,包装成成品。
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国际公布
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