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您现在的位置: 医学全在线 > 药学理论 > 中国药品专利文献 > 正文:紫外线屏蔽性贴剂专利检索:专利号/专利人/发明人
    

紫外线屏蔽性贴剂

公开(公告)号 CN100366240C  
公开(公告)日 2008.02.06  
申请(专利)号 CN200480012391.3  
申请日期 2004.05.07  
专利名称 紫外线屏蔽性贴剂  
主分类号 A61K9/70(2006.01)I  
分类号 A61K9/70(2006.01)I;A61K47/22(2006.01)I;A61K47/32(2006.01)I;A61K45/00(2006.01)I;A61K31/192(2006.01)I;A61P29/00(2006.01)I  
分案原申请号  
优先权 2003.5.7 JP 128934/2003  
申请(专利权)人 久光制药株式会社  
发明(设计)人 桥本好明;高田恭宪;鹤田清美  
地址 日本佐贺县  
颁证日  
国际申请 2004-05-07 PCT/JP2004/006024  
进入国家日期 2005.11.07  
专利代理机构 永新专利商标代理有限公司  
代理人 陈建全  
国省代码 日本;JP  
主权项 一种贴剂,其包含聚酯类支持体和在该聚酯类支持体的一面上设置的含有非甾体类抗炎药物的粘合剂层,其中所述支持体含有以通式(1)所示的羟基苯基苯并三唑衍生物, 式中,R1和R2可以相同或不同,是氢或C1~C4的烷基。  
摘要 本发明的目的在于提供即使在直射太阳光线时,药物也不会光分解,且充分显示药效,同时制剂的物性和安全性优异的贴剂。本发明提供一种贴剂,其包含聚酯类支持体和在该聚酯类支持体的一面上设置的含有非甾体类抗炎药物(NSAID)的粘合剂层,其中所述支持体含有以通式(1)所示的羟基苯基苯并三唑衍生物,式中,R1和R2可以相同或不同,是氢或C1~C8的烷基,X是卤原子。  
国际公布 2004-11-18 WO2004/098575 日  
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