| 公开(公告)号 | CN101027286A |
| 公开(公告)日 | 2007.08.29 |
| 申请(专利)号 | CN200580032268.2 |
| 申请日期 | 2005.09.21 |
| 专利名称 | 作为11b-HSD1抑制剂的吲唑酮衍生物 |
| 主分类号 | C07D231/56(2006.01)I |
| 分类号 | C07D231/56(2006.01)I;C07D413/12(2006.01)I;C07D407/12(2006.01)I;C07D403/04(2006.01)I;A61K31/416(2006.01)I;A61K31/4245(2006.01)I;A61K31/4439(2006.01)I;A61P3/04(2006.01)I;A61P3/10(2006.01)I |
| 分案原申请号 | |
| 优先权 | 2004.9.29 EP 04104753.1 |
| 申请(专利权)人 | 霍夫曼－拉罗奇有限公司 |
| 发明(设计)人 | 库尔特·阿姆雷因;蔡建平;罗伯特·阿兰·小古德诺;丹尼尔·洪齐格;贝恩德·库恩;亚历山大·迈韦格;维尔纳·奈德哈特 |
| 地址 | 瑞士巴塞尔 |
| 颁证日 | |
| 国际申请 | 2005-09-21 PCT/EP2005/010175 |
| 进入国家日期 | 2007.03.23 |
| 专利代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 |
| 代理人 | 柳春琦 |
| 国省代码 | 瑞士;CH |
| 主权项 | 式(I)的化合物 其中 R1为氢、低级-烷基、芳基或芳基-低级-烷基； R2为芳基、芳基-低级-烷基、杂芳基、杂芳基-低级-烷基、环烷基、环烷基-低级-烷基、氟代-低级-烷基或低级-烷基，所述的低级-烷基任选地被1至3个取代基取代，所述的取代基选自：OH、CN、卤素、低级-烷氧基和C(O)NR8R9； R3为氢、卤素、低级-烷基、氟代-低级-烷基、低级-烷氧基或氟代-低级-烷氧基； R4为氢、卤素、低级-烷基、氟代-低级-烷基、低级-烷氧基或氟代-低级-烷氧基； R5为氢、卤素、低级-烷基、氟代-低级-烷基、低级-烷氧基或氟代-低级-烷氧基； R6为氢或低级-烷基； R7为芳基、杂芳基、氟代-低级-烷基或低级-烷基，所述的低级-烷基任选地被1至3个取代基取代，所述的取代基选自：OH、CN、卤素、低级-烷氧基和环烷基； R8和R9彼此独立地选自：氢和低级-烷基； 及其药用盐。 |
| 摘要 | 式(I)的化合物及其药用盐和酯，其中R1到R7具有说明书和权利要求书中给出的含义，能够以药物组合物形式使用。式(I)的化合物是11b-HSD1抑制剂。 |
| 国际公布 | 2006-04-06 WO2006/034804 英 |
