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| 公开(公告)号 | CN101052631A |
| 公开(公告)日 | 2007.10.10 |
| 申请(专利)号 | CN200580023953.9 |
| 申请日期 | 2005.07.20 |
| 专利名称 | 结晶霉酚酸钠 |
| 主分类号 | C07D307/88(2006.01)I |
| 分类号 | C07D307/88(2006.01)I |
| 分案原申请号 | |
| 优先权 | 2004.7.20 US 60/589,909;2004.11.29 US 60/631,849 |
| 申请(专利权)人 | 特瓦药厂私人有限公司 |
| 发明(设计)人 | S·莫纳;C·绍博;T·塔马斯;J·哈科;A·科瓦奇尼-梅柴;J·阿伦希姆 |
| 地址 | 匈牙利德布勒森 |
| 颁证日 | |
| 国际申请 | 2005-07-20 PCT/US2005/025816 |
| 进入国家日期 | 2007.01.16 |
| 专利代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 |
| 代理人 | 刘 冬;李连涛 |
| 国省代码 | 匈牙利;HU |
| 主权项 | 一种结晶霉酚酸钠，所述结晶霉酚酸钠选自： 结晶霉酚酸钠形式(M4)，其特征在于具有7.1、7.6、10.7、14.0和16.3±0.2度2-θ峰的粉末XRD图谱； 结晶霉酚酸钠形式(晶型M5)，其特征在于具有9.8、17.4、22.2、27.1和31.7±0.2度2-θ峰的粉末XRD图谱； 结晶霉酚酸钠形式(晶型M6)，其特征在于具有6.1、7.9、14.6、18.2和18.5±0.2度2-θ峰的粉末XRD图谱； 结晶霉酚酸钠形式(晶型M7)，其特征在于具有13.0、13.7、17.6、22.6和23.6±0.2度2-θ峰的粉末XRD图谱； 结晶霉酚酸钠形式(晶型M8)，其特征在于具有5.4、7.5、9.8、10.6、18.2和20.9±0.2度2-θ峰的粉末XRD图谱； 结晶霉酚酸钠形式(晶型M9)，其特征在于具有5.6、6.0、7.5和9.9±0.2度2-θ峰的粉末XRD图谱； 结晶霉酚酸钠形式(晶型M10)，其特征在于具有5.8、9.0、9.3和19.7±0.2度2-θ峰的粉末XRD图谱； 结晶霉酚酸钠形式(晶型M11)，其特征在于具有10.3±0.2度2-θ峰的粉末XRD图谱； 及无定形霉酚酸钠形式(形式M12)，其特征在于具有1735、1560和1133cm-1峰的FTIR光谱。 |
| 摘要 | 提供各种结晶霉酚酸钠形式及其制备方法。 |
| 国际公布 | 2006-02-02 WO2006/012385 英 |
