公开(公告)号
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CN101119997A
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公开(公告)日
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2008.02.06
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申请(专利)号
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CN200680004890.7
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申请日期
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2006.02.14
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专利名称
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碳青霉烯衍生物的制备方法及其中间体结晶
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主分类号
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C07D477/00(2006.01)I
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分类号
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C07D477/00(2006.01)I
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分案原申请号
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优先权
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2005.2.15 JP 037088/2005;2005.7.1 JP 193257/2005
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申请(专利权)人
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盐野义制药株式会社
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发明(设计)人
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上仲正朗;保积靖之;野口耕一;小紫唯史
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地址
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日本大阪府
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颁证日
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国际申请
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2006-02-14 PCT/JP2006/302482
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进入国家日期
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2007.08.14
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专利代理机构
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中国专利代理(香港)有限公司
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代理人
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熊玉兰;李平英
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国省代码
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日本;JP
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主权项
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下式所示的化合物(I)、其可药用盐、其溶剂化物或它们的结晶的制备方法, [化3] 式中,R1为羧基保护基团;R2为氨基保护基团; 其特征在于,使式(III)所示的化合物(III)与式(IV)所示的化合物(IV)或其可药用盐在仲胺的存在下反应,然后根据需要将羟基保护基团脱保护, [化1] 式中,R为氢原子或羟基保护基团;R1为羧基保护基团;Ph为苯基; [化2] 式中,R2为氨基保护基团。
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摘要
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本发明提供对工业制备方法有利的碳青霉烯合成中间体。提供以使化合物(III)和化合物(IV)在仲胺的存在下反应为特征的化合物(I)、其可药用盐、其溶剂化物或它们的结晶的制备方法以及化合物(I)的苯甲醇合物结晶等。提供化合物(I)的通过Pd催化剂进行的脱保护法以及化合物(IV)等的结晶。
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国际公布
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2006-08-24 WO2006/087996 日
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